Participation de Sylvie Benoliel-Claux des 26 mars et 16 avril 2021 – IAE Paris (Sorbonne)

thèmes abordés lors des deux séances :

-Introduction au droit des marques,

-Protection de la création à vocation industrielle (par la marque; le droit d’auteur et les dessins et modèles),

-Présentation et modalités de la contrefaçon,

-La contrefaçon de marque & de droit d’auteur.